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      600系列光刻机 —— IC前道制造


      SSA600/20

      SSC600/10

      SSB600/10

      SSX600系列步进扫描投影光刻机采用四倍缩小倍率的投影物镜、工艺自适应调焦调平技术,以及高速高精的自减振六自由度工件台掩模台技术,可满足IC前道制造90nm、110nm、280nm关键层和非关键层的光刻工艺需求。该设备可用于8寸线或12寸线的大规模工业生产。
         主要技术参数

      型号 SSA600/20 SSC600/10 SSB600/10
      分辨率 90nm 110nm 280nm
      曝光光源 ArF excimer laser KrF excimer laser i-line mercury lamp
      镜头倍率 1:4 1:4 1:4
      硅片尺寸 200mm或300mm 200mm或300mm 200mm或300mm